Profesorado |
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Programa | Introdución, Procesos de deposición y ataque de láminas delgadas.Descargas gaseosas(plasma) como método de deposición y ataque.Procesos de evaporación térmica.Epitaxia de haces moleculares MBE.Aplicaciones del sputtering a la deposición y ataque de láminas delgadas.Formación de láminas delgadas por ataque y deposición química.Determinación de la estructura de láminas delgadas.Propiedades ópticas de láminas delgadas.Características eléctricas de las láminas delgadas.Propiedades mecánicas de las láminas delgadas.Aplicaciones.Prácticas de laboratorio obtención y caracterización. |
Objetivos | Familiarizar al alumno con la caracterización de medios anisótropos y medios isótropos inhomogéneos mediante la utilización de técnicas ópticas. |
Bibliografía |
- "Handbook of thin film technology". L.I.Maissel y R.Glang. McGraw-Hill Book Company. 1970. Library of Congress Catalog Card Number 73-79497
- "Thin Film Processes" J.L.Vossen y W.Kern. Academic Press, Inc. 1978. ISBN 0-12-728250-5
- "Thin Film Processes II" J.L.Vossen y W.Kern. Academic Press, Inc. 1991. ISBN 0-12-728251-3
- Journal of Physics:Condensed Matter Vol14, Nº35 Pp 8153-8414 (2002) Special issue on Nanostructured Surfaces.
- "Absorption and scattering of Light by Small Particles" C.F.Bohren y D.R.Huffman. Wiley Professional Paperback Editions Published 1998. ISBN 0-471-29340-7
- "Optical properties of thin solid films" O.S.Havens. Dover publications Inc. 1991. ISBN0-486-66924-6
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Metodología | Se combinarán clases teóricas sobre las técnicas de caracterización con experiencias de laboratorio obteniendo láminas delgadas de silicio poroso mediante procesos químicos y electroquímicos para su posterior caracterizaciòn morfológica mediante microscopía electrónica SEM y TEM, posteriormente se realizará su caracterización óptica (fotoluminiscencia, camino óptico, etc.). |
Evaluación | La evaluación constara de dos partes: 1) Examen sobre las técnicas de obtención y caracterización. 2) Trabajo práctico de obtención y caracterización tutorizado. |
Requisitos | Conocimientos básicos de electromagnetismo, física cuántica, Óptica y física del estado sólido. |
Observaciones | |
Página Web | |
Horario |
Clases:
- Martes 27/
01/
2009 de
18:00 a
19:00
(Colisiona con:
Criptología y Seguridad Informática, Procesado de Imagen y Aplicaciones 3D)
- Jueves 29/
01/
2009 de
18:00 a
19:00
(Colisiona con:
Acústica, Herramientas y Lenguajes de Programación)
- Martes 03/
02/
2009 de
18:00 a
19:00
(Colisiona con:
Criptología y Seguridad Informática, Procesado de Imagen y Aplicaciones 3D)
- Viernes 06/
02/
2009 de
18:00 a
19:00
(Colisiona con:
Criptología y Seguridad Informática, Herramientas y Lenguajes de Programación, Obtención y caracterizacion de nuevos materiales sol gel. Relación estructura-propiedades físicas, Procesado de Imagen y Aplicaciones 3D)
- Martes 10/
02/
2009 de
18:00 a
19:00
(Colisiona con:
Computación de altas prestaciones, Metaheurísticas, Procesado de Imagen y Aplicaciones 3D, Sistemas de Información, Sistemas Distribuidos)
- Viernes 13/
02/
2009 de
18:00 a
19:00
(Colisiona con:
Acústica, Computación de altas prestaciones, Criptología y Seguridad Informática, Obtención y caracterizacion de nuevos materiales sol gel. Relación estructura-propiedades físicas, Procesado de Imagen y Aplicaciones 3D, Sistemas de Información, Sistemas Distribuidos)
- Jueves 19/
02/
2009 de
18:00 a
19:00
(Colisiona con:
Computación de altas prestaciones, Metaheurísticas, Sistemas de Información, Sistemas Distribuidos)
- Viernes 27/
02/
2009 de
18:00 a
19:00
(Colisiona con:
Acústica, Computación de altas prestaciones, Obtención y caracterizacion de nuevos materiales sol gel. Relación estructura-propiedades físicas, Sistemas de Información, Sistemas Distribuidos)
- Martes 03/
03/
2009 de
18:00 a
19:00
(Colisiona con:
Computación de altas prestaciones, Técnicas de Caracterización Óptica de Materiales)
- Viernes 06/
03/
2009 de
18:00 a
19:00
(Colisiona con:
Acústica, Computación de altas prestaciones, Obtención y caracterizacion de nuevos materiales sol gel. Relación estructura-propiedades físicas)
- Lunes 09/
03/
2009 de
18:00 a
19:00
- Martes 10/
03/
2009 de
18:00 a
19:00
(Colisiona con:
Fundamentos y Tecnología en Fotónica)
- Viernes 13/
03/
2009 de
18:00 a
19:00
(Colisiona con:
Fundamentos y Tecnología en Fotónica, Obtención y caracterizacion de nuevos materiales sol gel. Relación estructura-propiedades físicas)
- Lunes 16/
03/
2009 de
09:00 a
10:00
- Martes 17/
03/
2009 de
09:00 a
12:30
(Colisiona con:
Fundamentos de dispositivos semiconductores)
- Miércoles 18/
03/
2009 de
09:00 a
10:00
- Jueves 19/
03/
2009 de
09:00 a
10:00
- Viernes 20/
03/
2009 de
09:00 a
10:00
(Colisiona con:
Técnicas de Caracterización Óptica de Materiales)
- Lunes 23/
03/
2009 de
09:00 a
10:00
- Martes 24/
03/
2009 de
09:00 a
10:00
- Miércoles 25/
03/
2009 de
09:00 a
12:30
(Colisiona con:
Fundamentos de dispositivos semiconductores)
- Jueves 26/
03/
2009 de
09:00 a
10:00
- Viernes 27/
03/
2009 de
09:00 a
10:00
(Colisiona con:
Técnicas de Caracterización Óptica de Materiales)
- Miércoles 01/
04/
2009 de
18:00 a
19:00
(Colisiona con:
Fundamentos y Tecnología en Fotónica, Obtención y caracterizacion de nuevos materiales sol gel. Relación estructura-propiedades físicas)
- Jueves 02/
04/
2009 de
18:00 a
19:00
(Colisiona con:
Fundamentos y Tecnología en Fotónica)
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